首页  |  本刊简介  |  编委会  |  投稿须知  |  订阅与联系  |  微信  |  出版道德声明  |  Ei收录本刊数据  |  封面
污水二氧化氯和氯消毒过程中遗传毒性的变化及氨氮的影响
摘要点击 2998  全文点击 1705  投稿时间:2006-03-25  修订日期:2006-05-30
查看HTML全文 查看全文  查看/发表评论  下载PDF阅读器
中文关键词  污水再生利用  二氧化氯消毒  氯消毒  遗传毒性  氨氮
英文关键词  wastewater reuse  chlorine dioxide disinfection  chlorine disinfection  genotoxicity  ammonia nitrogen
DOI    10.13227/j.hjkx.20070328
作者单位
王丽莎 清华大学环境科学与工程系环境模拟与污染控制国家重点联合实验室北京100084 
胡洪营 清华大学环境科学与工程系环境模拟与污染控制国家重点联合实验室北京100084 
塔春红 清华大学环境科学与工程系环境模拟与污染控制国家重点联合实验室北京100084 
田杰 清华大学环境科学与工程系环境模拟与污染控制国家重点联合实验室北京100084 
王超 清华大学环境科学与工程系环境模拟与污染控制国家重点联合实验室北京100084 
藤江幸一 日本丰桥技术科学大学生态工程系爱知县日本 
中文摘要
      采用umu遗传毒性测试方法考察了二氧化氯和氯消毒对几种城市污水生物处理出水遗传毒性的影响,发现当二氧化氯消毒剂从0 mg/L增加到30 mg/L时,几种污水的遗传毒性均先迅速降低后趋于稳定,而当氯消毒剂从0 mg/L增加到30 mg/L时,几种污水的遗传毒性的变化规律不同.进一步研究氨氮对污水消毒过程中遗传毒性变化的影响,发现氨氮对污水二氧化氯消毒过程中遗传毒性的变化规律没有显著影响,但是对污水氯消毒过程中遗传毒性的变化规律却起着至关重要的作用.当氨氮含量较小(<10~20 mg/L)时,污水氯消毒后的遗传毒性小于消毒前;当氨氮含量较大时(>10~20 mg/L),污水氯消毒后的遗传毒性大于消毒前.
英文摘要
      The effects of chlorine dioxide and chlorine disinfections on genotoxicity of different biologically treated sewage wastewater samples were studied by umu-test. The experiment results showed that when chlorine dioxide dosage increased from 0 mg/L to 30 mg/L, the genotoxicity of wastewater first decreased rapidly and then tended to be stable, while when the chlorine dosage increased from 0 mg/L to 30 mg/L, the genotoxicity of wastewater changed diversely for different samples. It was then found that ammonia nitrogen did not affect the change of genotoxicity during chlorine dioxide disinfection of wastewater, while it greatly affected the change of genotoxicity during chlorine disinfection of wastewater. When the concentration of ammonia nitrogen was low (<10~20 mg/L), the genotoxicity of wastewater decreased after chlorine disinfection, and when the concentration of ammonia nitrogen was high (>10~20 mg/L), the genotoxicity of wastewater increased after chlorine disinfection.

您是第83103970位访客
主办单位:中国科学院生态环境研究中心 单位地址:北京市海淀区双清路18号
电话:010-62941102 邮编:100085 E-mail: hjkx@rcees.ac.cn
本系统由北京勤云科技发展有限公司设计  京ICP备05002858号-2