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基质比对ABR厌氧氨氧化工艺脱氮性能的影响
摘要点击 2183  全文点击 1017  投稿时间:2016-11-28  修订日期:2016-12-21
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中文关键词  基质比  厌氧氨氧化  厌氧折流板反应器  抑制  脱氮
英文关键词  substrate ratio  anaerobic ammonium oxidation (ANAMMOX)  anaerobic baffled reactor (ABR)  inhibition  nitrogen removal
作者单位E-mail
闾刚 苏州科技大学环境科学与工程学院, 苏州 215009 gl930522@163.com 
徐乐中 苏州科技大学环境科学与工程学院, 苏州 215009
江苏省水处理技术与材料协同创新中心, 苏州 215009
江苏省环境科学与工程重点实验室, 苏州 215009 
kgre505@163.com 
沈耀良 苏州科技大学环境科学与工程学院, 苏州 215009
江苏省水处理技术与材料协同创新中心, 苏州 215009
江苏省环境科学与工程重点实验室, 苏州 215009 
 
吴鹏 苏州科技大学环境科学与工程学院, 苏州 215009
江苏省水处理技术与材料协同创新中心, 苏州 215009
江苏省环境科学与工程重点实验室, 苏州 215009 
 
张婷 苏州科技大学环境科学与工程学院, 苏州 215009  
SamwineThomas 苏州科技大学环境科学与工程学院, 苏州 215009  
中文摘要
      为解决厌氧氨氧化底物去除不彻底导致总氮去除偏低的问题,通过控制不同的进水基质比,对厌氧折流板反应器(ABR)的厌氧氨氧化脱氮性能进行了研究.结果表明,ABR厌氧氨氧化系统最佳进水NO2--N/NH4+-N为1.34,此时NH4+-N和NO2--N的去除率同时达到99.99%左右,总氮去除率达到峰值为87%,当进水NO2--N/NH4+-N从1逐渐降低至0.49和从1.34逐渐提高至1.62时,反应器对NH4+-N和NO2--N的绝对去除量较为稳定,NH4+-N或NO2--N过量对ABR厌氧氨氧化系统没有产生明显抑制;此外,不同基质比条件下,NH4+-N和NO2--N的去除基本在第1隔室完成,基质比变化对ABR各隔室的脱氮效果没有产生显著影响,ABR厌氧氨氧化系统对基质浓度的变化具有较好的稳定性.
英文摘要
      In order to solve the problem of low nitrogen removal caused by incomplete removal of anaerobic ammonium oxidation (ANAMMOX) substrate, The nitrogen removal performance of the ANAMMOX was investigated by controlling different influent substrate ratios in an anaerobic baffled reactor (ABR). The result showed the optimal influent NO2--N/NH4+-N was 1.34 with which the NH4+-N and NO2--N removal efficiencies were about 99.99% and the total nitrogen removal efficiency reached a peak of 87%. When the influent NO2--N/NH4+-N gradually reduced from 1 to 0.49 and increased from 1.34 to 1.62, the absolute removal of NH4+-N and NO2--N was stable in the reactor and no significant inhibition was observed in the system. Under the condition of different substrate ratios, the removal of NH4+-N and NO2--N was basically consumed in the first compartment of ABR, the change of substrate ratio did not have an obvious impact on the nitrogen removal performance of each compartment in the ABR, thus, the ABR ANAMMOX system had good stability to the change of substrate concentration.

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